双光子,微纳3D打印,三维光刻,跨尺度微纳加工,自相关仪,自动显影机,飞秒激光加工,生物打印

MN-UV-Smart

无掩模激光直写设备

    基于紫外光刻的无掩膜激光直写光刻设备,用于晶圆级2D/2.5D微纳结构加工。设备小巧紧凑型设计,无需掩模版,具备高直写速度、高分辨率等特点。采用集成化设计,全自动控制,操作简便,适合实验室科研需求及快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等研究领域。

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主要技术参数
模式
Nano
Standard
X
最小特征尺寸
0.3 µm
1 µm
4 µm
最小线间距
0.45 µm
1 µm
5 µm
对准精度 [3σ, nm]
0.5 µm
0.5 µm
1.0 µm
最大加工速度
40 mm 2 /min
900 mm 2 /min
3000 mm 2 /min
光源
405 nm/365 nm                                          
基材尺寸
50mm x 50mm 到8'' x 8'',可按照客户要求定制 10'' x 10''
基底厚度
 0 -12 mm
最大曝光面积
 50 x 50 mm 2 / 100 x 100 mm 2 / 200 x 200 mm 2 (定制)