双光子,微纳3D打印,三维光刻,跨尺度微纳加工,自相关仪,自动显影机,飞秒激光加工,生物打印

MN-UV-Ultra

无掩膜紫外光刻设备,用于晶圆级2D/2.5D微纳结构加工

    设备无需掩膜,可实现纳米级精度加工,拼接误差极小,自主研发的超高速加工方式,具备高直写速度、高分辨率等特点。集成化设计,全自动控制,操作简便,适用高达12英寸的基材,适合快速加工、建模或小批量生产,便于工业应用。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。

主要特点:

- 更高对准精度和结构均匀性

- 纳米级运动准确性和精准定位

- 长时稳定性控制系统

- 多种加工模式可选,快速升级和扩展服务

- 自动可视过程控制系统

- 实时成像测量系统

- 加工面自动平整、加工面自动聚焦

- 更大加工区域,适用不同尺寸基材

- 无拼接式加工

- 适用多种基材,提供自动化样品夹具

如需设备参数,请致电0535-2981985、18615037228