三维微纳尺寸光刻胶产品

【适用于三维微纳制造的光敏材料产品特点】

高分辨率，纳米级微纳结构加工

低荧光，无细胞毒性

折射率匹配，优异的光学特性

高耐温，亚微米级支架

超柔韧，力学超材料

高透光率，微透镜、光波导

高反应活性，超高速微纳加工

绿色环保，无溶剂，无需前处理，操作简单

【操作环境】

由高分辨率工业相机及其光路搭建的成像系统，能够实时观察样品制作情况；灵活的操作方式，能够方便的实现位置的粗调、精调以及样品的局部观察。

一体化的软件设计可以实现对整台设备的完全控制，配合独有的领域语言和路径转换算法，能够轻松上手设备使用。

【路径模拟器】

样本制作的过程会在路径模拟器上实时预览，可以观察样品的三维结构以及成型过程。

【高精度自动对准、定位】

通过独创图像识别算法，实现对特定目标的检测，可以轻松实现自动定位、对接等操作。

【领域专用语言】

独有的领域专用语言，使用简单的几条语句完成对任务编排与控制。支持函数、循环、判断、数组、变量等常见语言特性。使得三维光刻过程自动化、简单化、高效化，从而完成高复杂度的结构制作。适用于工业领域中大量重复结构的制作以及科研领域中参数渐变性试验。